這是光功能高分子材料ppt，包括了光功能高分子材料及其分類，光化學反應(yīng)原理，光化學反應(yīng)，二聚過程，衡量光引發(fā)劑及光敏劑優(yōu)劣的標準，光敏涂料特點與分類，概述等內(nèi)容，歡迎點擊下載。

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其中開發(fā)比較成熟并有實用價值的感光性高分子材料主要有光致抗蝕材料和光致誘蝕材料，產(chǎn)品包括光刻膠、光固化粘合劑、感光油墨、感光涂料等。 1. 光致抗蝕 目前廣泛使用的預(yù)涂感光版，就是將感光材料樹脂預(yù)先涂敷在親水性的基材上制成的。曬印時，樹脂若發(fā)生光交聯(lián)反應(yīng)，則溶劑顯像時未曝光的樹脂被溶解，感光部分樹脂保留了下來。反之，曬印時若發(fā)生光分解反應(yīng)，則曝光部分的樹脂分解成可溶解性物質(zhì)而溶解。 光刻膠是微電子技術(shù)中細微圖形加工的關(guān)鍵材料之一。特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究和應(yīng)用。 衡量光引發(fā)劑及光敏劑優(yōu)劣的標準 從光化學角度看，衡量兩者優(yōu)劣的主要參數(shù)是：三線態(tài)能量高低及活性大小。 當光源條件給定時，光引發(fā)劑和光敏劑發(fā)生作用的要求 具有合適的吸收光譜（與光源匹配否）和消光系數(shù)（300-400nm波長范圍內(nèi)，102L/molcm）。 引發(fā)量子效率高。 光敏劑、光引發(fā)劑及其斷裂產(chǎn)物不參與鏈轉(zhuǎn)移和鏈終止反應(yīng) 。 光引發(fā)劑和光敏劑應(yīng)有一定的熱穩(wěn)定性。它們還應(yīng)與反應(yīng)體系互溶，無毒，無氣味以及不應(yīng)使反應(yīng)產(chǎn)物發(fā)黃等特性。 感光基團直接連接在高分于主鏈上，在光作用下激發(fā)成活性基團，并進一步形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的聚合物。 在有機化學中，許多基團具有光學活性，其中以肉桂�；�最為著名。此外，重氮基、疊氮基都可引入高分子形成感光性高分子。 光致變色過程中，變色現(xiàn)象大多與聚合物吸收光后的結(jié)構(gòu)變化有關(guān)系。主要包括: ① 鍵的異裂，如螺吡喃等; ② 鍵的均裂，如六苯基雙脒硅等; ③ 電子轉(zhuǎn)移互變異構(gòu)，如水楊醛縮苯胺類化合物 ④ 順反異構(gòu)，如偶氮化合物等; ⑤ 氧化還原反應(yīng)，如稠環(huán)芳香化合物等; ⑥ 周環(huán)化反應(yīng)，如二芳基乙烯類等。 某些有機化合物的結(jié)構(gòu)以兩種官能團異構(gòu)體互相迅速變換而處于動態(tài)平衡的現(xiàn)象。例如：乙酰乙酸乙酯是酮式和烯醇式的平衡混合物： 硫卡巴腙與汞的配合物是分析化學中常用的顯色劑，屬于光致開環(huán)化合物。這類光致變色高分子中最為典型的是由對（甲基丙烯酞胺基）苯基汞二硫膝絡(luò)合物與苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯和丙烯酞胺等共聚而制得的光致變色高分子。其共聚物薄膜經(jīng)日光照射由桔紅色變?yōu)榘底厣�或紫色�? 這類高分子的光致變色性能是偶氮苯的順反異構(gòu)引起的， 在光作用下， 偶氮苯從反式轉(zhuǎn)為順式，順式是不穩(wěn)定的， 在暗條件下， 回復(fù)到穩(wěn)定的反式。 由2個芳雜環(huán)( 其中1個含有吡喃環(huán)) 通過sp3雜化的螺碳原子連接而成的一類化合物的通稱 。 大多數(shù)螺吡喃的吸收發(fā)生在紫外光譜區(qū)，一般在200~400 nm范圍內(nèi)，不呈現(xiàn)顏色。在受到紫外光激發(fā)后，分子中C—O鍵發(fā)生異裂，繼而分子構(gòu)型和電子排布發(fā)生很大的變化，2 個環(huán)系由正交變?yōu)楣财矫�，整個分子形成一個大的共軛體系，吸收也隨著發(fā)生很大的紅移，出現(xiàn)在 500-600nm范圍內(nèi)，因此呈現(xiàn)顏色。 ② 含螺苯并吡喃結(jié)構(gòu)的聚肽； ③ 主鏈中含有螺苯并吡喃結(jié)構(gòu)的縮聚高分子。 4. 氧化還原型光致變色聚合物 當高分子材料在光的作用下能發(fā)生可逆氧化還原反應(yīng)，且不同氧化態(tài)的吸收光譜明顯不同，則構(gòu)成光致氧化還原型變色材料。 這一類光致變色聚合物主要包括含有聯(lián)吡啶鹽結(jié)構(gòu)、硫堇（jǐn）結(jié)構(gòu)和噻嗪結(jié)構(gòu)的高分子衍生物。 ① 含硫堇結(jié)構(gòu)的聚丙烯甲酰胺氧化還原型光致變色聚合物； ② 含噻嗪結(jié)構(gòu)的聚丙烯甲酰胺氧化還原型光致變色聚合物。 模擬復(fù)印機成像-充電曝光 模擬復(fù)印機成像-顯影 模擬復(fù)印機成像-定影 模擬復(fù)印機成像-清潔 模擬復(fù)印機成像-消電AnQ紅軟基地

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